清华大学的新型粒子加速器光源研究，距离实际应用还有多久？

如何看待清华大学团队新型粒子加速器光源“稳态微聚束”的首个原理验证实验? 离实际应用还有多远？

根据唐传祥教授的说法：“SSMB 光源的潜在应用之一是作为未来 EUV 光刻机的光源。” 这也是此次团队新成果之所以受到广泛关注的重要原因之一。不过唐传祥教授同时也说了，基于SSMB的EUV光源虽然有望解决自主研发光刻机中最核心的“卡脖子”难题，但是也还需要持续的科技攻关和上下游产业链配合，如此才能取得真正的成功。

其实这里已经给了我们距离实际应用中间的差距，第一方面还需要持续的科技攻关，第二方面还需要上下游的产业链配合！那么这其中就有两个问题了！

第一方面：上下游产业链自主化生产能力是否成熟？

很显然目前的环境并不成熟，很多技术都是依附国外授权许可开展的！如果想要进行完成这方面配合，就需要有专门的测试，小到多建立更多的各项链条的测试工作室，大到可能需要生产线的配合！但是如果已经达到了这一步，就要技术攻关每一个点都已经面面俱到了！单点突破是不行的！因为要一点点带线，以线带面才可以！

不过目前的所有阶段都是在于“有望”解决自主化研发光刻机最核心的卡脖子难题！

第二方面：国产的光刻机技术攻坚，又到了何种地步？

我们知道如今全球采用较多的是荷兰ASML，还有其他的几家分别是：尼康、佳能、欧泰克、上海微电子装备、SUSS、ABM, Inc；

位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售，正在进行其他各系列产品的研发制作工作。高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造，国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

所以这就是现实问题，如今在高端芯片领域需求是比较高的，所以我们需要的是更多的领域发力，全方面研究探索的是高端光刻机，你能够制造高端的光刻机，这是最核心的！不然芯片应用永远是比较小的，比较低端的市场，那肯定是不行的！所以任何的产品都分有级别，而不同级别的产品是需要不同能力的机器来生产出来的，如果达不到要求是很难生产出高端市场的产品的！所以这个需要很大的努力才能完成，对此大家是怎么看的，欢迎关注我创业者李孟和我一起交流！